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物理气相沉积(PVD)在瑞典SKF进口轴承行业发展应用 来源:本站  点击:次  日期:2021-9-17 18:36:7
物理气相沉积(PVD)在瑞典SKF进口轴承行业发展应用
瑞典SKF进口轴承上海地区一站式采购
瑞典SKF进口轴承物理气相沉积技术(PVD)是利用热蒸发、离子溅射或辉光放电等物理过程,在基体表面沉积所需涂层的技术。


瑞典SKF进口轴承物理气相沉积可镀制金属、合金、氧化物、氮化物、碳化物等膜层;膜层附着能力强,工艺温度低,一般无或很少变形。


       


  包括真空蒸镀、离子溅射、离子镀等。


①瑞典SKF进口轴承离子溅射镀膜技术:


离子溅射镀膜技术是在真空室中,利用荷能粒子轰击靶材表面,通过粒子的动量传递打出靶材中的原子及其他粒子,并使轴承沉积在基体上形成薄膜的技术。


粒子溅射镀膜可实现大面积快速沉积,镀膜密度高,附着性好。


②瑞典SKF进口轴承应用:


溅射镀膜材料不受限制,凡能制成靶的材料均可以溅射成膜,广泛应用于机械、电子、化学、光学、塑料等行业。


离子溅射MoS2用于轴承解决了轴承的润滑问题,实现了固体自润滑。


化学气相沉积技术是一种化学气相生长法,是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体,借气相作用或在基体表面上的化学反应生成要求的薄膜。


可镀膜层:TiC、TiN、Ti(CN)、Al2O3、ZrO2、TiO2金刚石或类金刚石等。


轴承利用CVD技术可实现钢球或滚子的陶瓷化,在金属球或滚子表面形成陶瓷层,提高滚动体的耐磨性、耐温性、润滑性、耐蚀性等性能。如飞机舱门轴承球。




设备种类及结构配置
真空离子镀膜(PVD物理气相沉积)设备按照镀膜方式的不同可分为多弧离子镀膜机和磁控溅射离子镀膜机以及两种不同镀膜方式同时安装性能互补的复合真空镀膜机。在镀膜加工领域,根据膜层特性的需要选择相应的镀膜系统可使膜层品质实现质的飞跃。
          


1、类别型号


(在具体使用轴承中,可根据镀膜的种类及工作量的大小选择不同型号的机型,或根据镀膜过程的实际要求由工程技术人员参考设计不同尺寸的离子镀膜设备。)
2、结构配置
真空离子镀膜设备由以下几部分组成
1.真空系统
真空室:真空筒体,工件转架,隔热内衬等。
真空机组:高真空阀;扩散泵机组(分子泵);罗茨泵;旋片泵,真空管道及阀门等。
2.镀膜系统
阴极电弧离子源,磁控溅射离子源,蒸发源等。
3.电源系统
脉冲偏压电源,中频溅射电源,弧电源,加热电源等。
4.控制系统
真空控制,镀膜控制,流量控制,电源控制或计算机全自动控制。
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